Effekten av etsning på metalliska mikrostrukturer

Processen att applicera tunna metallfilmer är en viktig del av halvledar-och magnetism industrin . De två huvudsakliga typerna av behandling involverar tillväxt av metallfilmer och etsningen av metallfilmer . Tillväxt involverar avsättning av ett metallmaterial med en metod , såsom förångning eller förstoftning . Etsning är den motsatta processen och innebär att ta bort selektivt material genom exponering för en viss kemikalie eller genom att bombardera materialet med joniserade gasmolekyler . Etsning

Etsning är det selektiva avlägsnandet av material. Det finns två huvudsakliga sätt att etsa material . En kemisk etsning används ofta för att selektivt avlägsna ett visst material medan andra områden av provet intakt. Ett exempel är användningen av fluorvätesyra för att selektivt avlägsna kiseldioxid. Ett andra sätt att etsa är att placera provet i en vakuumkammare, sedan införa en gas , såsom argon. Den argon därefter joniseras av en uppsättning av elektroder och accelereras mot provet. Jonerna bombardera provet och ta bort material . Eftersom alla delar av provet som bombarderas , är det inte en selektiv etsning , och alla ytor som utsätts kommer att ha material tas bort .
Minskning av Metall Tjocklek

Exponera alla metalliska provet med en etsnings minskar provets tjocklek. Detta är ofta det önskade resultatet av etch . I syfte att avlägsna en viss mängd av material , behöver den metall som ska exponeras för etch för en bestämd tid , till exempel, en minut. Tjockleken måste sedan mätas för att få en etsningshastighet , till exempel 10 nanometer per sekund . Addera Film Ojämnheter

Även om målet med en etch är att reducera metalltjockleken , normalt kommer detta till ett pris . Den metalliska filmen strävhet kan vara en mycket viktig kvantitet och mäts typiskt med en anordning som kallas ett atomkraftsmikroskop . Generellt gäller att ju längre ett material etsas , desto större metallisk film grovhet blir .

Komstorlek

Metalliska filmer består av många miljoner av små korn som är typiskt i storleksområdet 5 till 100 nanometer. Eftersom metallfilmer etsas , kan den genomsnittliga storleken på kornstorleken minskas , men detta är i hög grad beroende på vilken typ av etch , etch tid och etsa effekt om det är en jon etch .